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高級工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍遵循摩爾定律的發(fā)展要求，同時不斷同步督促電子特種氣體產(chǎn)業(yè)不斷發(fā)展。拋開工藝本身的難度不談，非工藝技術(shù)的質(zhì)量控制水平將對未來電子特種氣體產(chǎn)業(yè)的適者生存起到?jīng)Q定性的作用。青島高純氣體雜質(zhì)說明:
1.常規(guī)雜質(zhì)：
H2、O2、N2、Ar、CO、CO2、CH4、H2O。
原料中難以分離物質(zhì)。
2.特殊雜質(zhì)：
顆粒物
油份
金屬離子
污染同位素物質(zhì)。
亞穩(wěn)態(tài)物質(zhì)污染。
3.雜質(zhì)來源：
原料污染
原料雜質(zhì)成分。
生產(chǎn)工藝副產(chǎn)品。
工藝失效污染。
4.過程污染：
環(huán)境帶入：空氣成分（O2、N2、Ar、CO2）、水分。
生產(chǎn)裝置、管道、充裝裝置帶入：水、金屬元素、顆粒物、油。
生產(chǎn)工藝豐富。
包裝污染：殘留氣體污染。包裝本身帶入污染：水分、金屬元素、顆粒物。包裝內(nèi)壁處理不合格。
分解聚合污染。
充裝過程污染:更換效率低。更換氣體污染。
真空度不夠
以上文章介紹了高純氣體本身雜質(zhì)的基本組成。從以上結(jié)果可以看出，單點質(zhì)量控制法不能滿足質(zhì)量穩(wěn)定性和可靠性的要求，線性工藝質(zhì)量控制法不能有效監(jiān)控產(chǎn)品周轉(zhuǎn)以外的因素。因此，綜合質(zhì)量控制迫在眉睫。
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